感謝日本九州大學的郝博士提問：贗電容擬合時怎樣避免交叉線？譚編研究了CV曲線的特征，并將工具升級到v2.6完美解決交叉問題。非常感謝郝博士的貢獻和交流，促使了k1Tool的升級。

相信有不少同學還在為那些交叉的贗電容曲線而煩惱。這些交叉線往往會使贗電容的貢獻率大打折扣。不少同學坐不住了，趕緊將那些被你嫌棄的數(shù)據(jù)，利用k1Tool V2.6擬合一下吧！

圖1

理想狀態(tài)下，在極慢的CV掃描速度下，電極過程動力學越趨于可逆的平衡態(tài)。但是實際狀況下，多種因素可能導(dǎo)致不同掃描速度下，某些局部區(qū)域電流隨掃描速度并不滿足線性關(guān)系（圖1(a)）。

CV曲線出現(xiàn)線性“塌陷”，擬合優(yōu)度（Goodness of Fit）（確定系數(shù)）R^2并不高（例如圖1(c)中絕大多數(shù)點的R^2低于0.9），當然我們可以通過k1Tool V2.6丟棄這些局部異常區(qū)域，得到圖1(d)的結(jié)果。

1.k1Tool V2.6的使用方法

圖2k1Tool V2.6的使用方法

該工具的鏈接：

http://journal.scnu.edu.cn/editortan/cc/v2.6/

二維碼：

2. 贗電容曲線的繪制方法

選中我們需要繪制的某個掃速數(shù)據(jù)（例如1.5mV/s的E、i和k1v），點擊下方的模板庫按鈕，找到譚編之前設(shè)計的贗電容模板，繪制出草圖。這個草圖很怪，因為我們擬合的曲線是斷斷續(xù)續(xù)的（因為丟棄了R^2低于0.95的數(shù)據(jù)）。此時，雙擊擬合曲線，去除線下填充，然后點擊斷續(xù)的擬合曲線，選擇菜單“Analysis-Mathematics-Trace interpolation”插值外推的方法重建一條完整的曲線，在彈窗中直接按確定即可。

圖3斷續(xù)的贗電容曲線繪制方法

最終得到如下曲線

這里用到【190903A】贗電容模板，請轉(zhuǎn)發(fā)本文到朋友圈，發(fā)截圖給譚編免費領(lǐng)取該模板，或者打賞哦。