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半導(dǎo)體硅片清洗設(shè)備研究進(jìn)展 半導(dǎo)體硅片清洗設(shè)備研究進(jìn)展

半導(dǎo)體硅片清洗設(shè)備研究進(jìn)展

  • 期刊名字:微處理機(jī)
  • 文件大小:
  • 論文作者:林曉杰,劉麗君,王維升
  • 作者單位:中國電子科技集團(tuán)公司第四十七研究所,沈陽硅基科技有限公司
  • 更新時(shí)間:2023-03-24
  • 下載次數(shù):
論文簡介

闡述了半導(dǎo)體硅片清洗的一些重要設(shè)備.主要包括濕法化學(xué)清洗、兆聲波清洗以及機(jī)械刷洗設(shè)備等常用的設(shè)備及配置,同時(shí)也介紹了近幾年逐漸獲得應(yīng)用的清洗設(shè)備方面的技術(shù)創(chuàng)新.

論文截圖
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