鋁陽極氧化膜的半導體特性
- 期刊名字:物理化學學報
- 文件大?。?/li>
- 論文作者:趙景茂,谷豐,趙旭輝,左禹
- 作者單位:北京化工大學材料科學與工程學院
- 更新時間:2023-03-24
- 下載次數:次
論文簡介
采用Mott-Schottky理論結合氧化膜點缺陷模型(PDM)研究了工業(yè)純鋁L2陽極氧化膜的半導體性質,分別計算了沸水封閉和重鉻酸鉀封閉后陽極氧化膜的施主濃度、氧空穴擴散系數及平帶電位.結果表明,鋁陽極氧化膜封閉前后都具有n型半導體性質,且施主濃度隨著電壓的升高呈指數遞減.使用不同方法封閉的陽極氧化膜的氧空穴擴散系數為(1.12-5.53)×10-14 cm-2·s-1,封閉后陽極氧化膜平帶電位降低.
論文截圖
下一條:金剛石半導體研究進展
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