磁化等離子體的鞘層結(jié)構(gòu)
- 期刊名字:物理學(xué)報(bào)
- 文件大?。?/li>
- 論文作者:Zou Xiu,劉惠平,Gu Xiu-E
- 作者單位:大連交通大學(xué)理學(xué)院
- 更新時(shí)間:2023-03-20
- 下載次數(shù):次
論文簡(jiǎn)介
采用流體方法數(shù)值研究了斜磁場(chǎng)作用下的等離子體鞘層結(jié)構(gòu).模擬結(jié)果顯示磁場(chǎng)對(duì)鞘層結(jié)構(gòu)有顯著的影響,特別是在磁鞘邊界附近離子的密度分布產(chǎn)生了明顯的變化.分別討論了離子垂直入射和斜入射兩種情況,當(dāng)離子斜入射進(jìn)鞘層時(shí),其運(yùn)動(dòng)情況要相對(duì)復(fù)雜一些.在適當(dāng)?shù)臈l件下,洛倫茲力的作用使離子在某些區(qū)域產(chǎn)生相對(duì)聚集,離子密度分布產(chǎn)生波動(dòng).
論文截圖
下一條:滌綸簾子線的等離子體改性
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