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SiC光學(xué)材料的電弧增強等離子體加工方法 SiC光學(xué)材料的電弧增強等離子體加工方法

SiC光學(xué)材料的電弧增強等離子體加工方法

  • 期刊名字:國防科技大學(xué)學(xué)報
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  • 論文作者:史寶魯,戴一帆,解旭輝,周林
  • 作者單位:國防科技大學(xué)機電工程與自動化學(xué)院, 超精密加工技術(shù)湖南省重點實驗室
  • 更新時間:2023-03-21
  • 下載次數(shù):
論文簡介

SiC光學(xué)材料具有高化學(xué)穩(wěn)定性,其在普通的等離子體加工中難以獲得較高的加工效率。在等離子體加工實驗中,發(fā)現(xiàn)提高等離子體的自身射頻電壓可增強等離子體與SiC材料之間的電弧放電作用,而借助電弧的增強作用可提高SiC材料的加工效率,因此提出電弧增強等離子體加工方法。為研究電弧的形成原理,使用自制的探針分別測量了普通電感耦合等離子體和電弧增強等離子體的電壓。分別使用傳統(tǒng)方法和電弧增強方法對S-SiC進行直線掃描加工實驗,證明了電弧增強等離子體加工方法具有更高的加工效率。

論文截圖
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