文章通過對目前國內外光刻設備生產廠商對下一代光刻技術的開發(fā)及目前已經應用到先進生產線上的光刻技術及設備進行了對比研究,對光刻技術和光刻設備的發(fā)展趨勢進行了介紹,并對我國今后半導體光刻技術及設備的發(fā)展提出了合理化建議.