常壓微波等離子體激發(fā)過程的數(shù)字研究
- 期刊名字:硅谷
- 文件大?。?/li>
- 論文作者:郭世宇,崔琳,趙廣雷
- 作者單位:四川大學(xué)電子信息學(xué)院
- 更新時(shí)間:2023-03-21
- 下載次數(shù):次
論文簡介
基于常壓微波等離子體產(chǎn)生裝置的三維數(shù)字模型用于分析等離子體產(chǎn)生過程中電場、反射系數(shù)等物理參數(shù)的變化和等離體的特性。三維數(shù)字模型建立在包括氣體放電物理過程、邊界條件和工作氣體碰撞反應(yīng)等大量的電磁學(xué)、流體力學(xué)、化學(xué)以及分子動力學(xué)的學(xué)科理論模型基礎(chǔ)上,對多個(gè)參數(shù)進(jìn)行耦合計(jì)算。計(jì)算結(jié)果表明:等離子體的激發(fā)是一個(gè)快速、劇烈的過程,在72.5×10? s時(shí),放電區(qū)域的氣體電離達(dá)到最高峰,0.1 s時(shí)等離子體就已趨于穩(wěn)定。同時(shí)激發(fā)氣體產(chǎn)生等離子體所消耗的微波功率在等離子體激發(fā)過程中先急速增大,到達(dá)峰值后緩慢減小。
論文截圖
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