金屬等離子體浸沒(méi)離子注入技術(shù)合成NbN膜

期刊名字：北京師范大學(xué)學(xué)報(bào)
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論文作者：宋教花，張濤，侯君達(dá)，鄧志威
作者單位：北京師范大學(xué)低能核物理研究所
更新時(shí)間：2023-03-20
下載次數(shù)：次

論文簡(jiǎn)介

利用無(wú)大顆粒的金屬等離子體浸沒(méi)增強(qiáng)沉積技術(shù),在Si基體上進(jìn)行動(dòng)態(tài)離子束增強(qiáng)沉積NbN,在低溫下制成了NbN薄膜.薄膜表面細(xì)密光滑,退火前其硬度＞16.8 MN@mm-2,退火后硬度＞16.0 MN@mm-2.

論文截圖

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