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電子工業(yè)用試劑chemicals for electronic industry

時間：2020-03-01 來源：網(wǎng)絡 瀏覽：
用于半導體工業(yè)、微電子工業(yè)的化學試劑。電子工業(yè)范圍廣，所用材料品種繁多。特別是半導體工業(yè)、微電子工業(yè)的發(fā)展，所用化學試劑也隨之迅速發(fā)展。自從硅平面工藝建立后，半導體工業(yè)獲得飛速進展，其中一個重要的原因就是不斷開發(fā)先進技術和相應的各種新型試劑。電子工業(yè)用試劑主要有以下幾種：
　?、佟」饪棠z　又稱光致抗蝕劑，隨著半導體電路向超高頻、高可靠、高集成方向發(fā)展。利用光刻工藝刻蝕各種精密的線條一般為 12～1μm，正在研究 0.5μm，越來越細。用作抗蝕涂層的光刻膠是光刻工藝中的關鍵材料，要求光刻膠的性能、質(zhì)量也越來越高。因此，在微電子工業(yè)中光刻膠是研究、競爭相當活躍的領域。在美國，1982～1986年間光刻膠的銷售額年平均增長約14％。
　　近年來，不斷研究感光性樹脂、感光劑的結構和曝光光源的改進，以提高分辨精度和耐腐蝕等性能，適應微電子工業(yè)向超大規(guī)模集成電路的發(fā)展。
　　②　高純試劑　又稱高純化學品，它的應用，貫穿于整個電路生產(chǎn)的工藝過程中。它的質(zhì)量對控制沾污，提高集成電路成品率，起著重要作用。主要包括兩類:第一類在制半導體器件和集成電路生產(chǎn)中，除高純單晶和超純氣體外，并要有控制地摻入適量的雜質(zhì)元素，以使之具有所需要的電性能。這種摻入的雜質(zhì)稱為摻入劑，主要是砷、磷、硼的化合物，如三氧化二砷、三氯化磷、三氯氧磷、三溴化硼、砷烷、磷烷、硼烷等。這類試劑純度很高，一般金屬元素雜質(zhì)要控制在0.1～0.001ppm，非金屬元素雜質(zhì)控制在0.1ppm以下。第二類在蝕刻過程中用于清洗、顯影、腐蝕、去膜等工序。這類試劑包括硫酸、鹽酸、硝酸、氫氟酸、過氧化氫等無機物和丙酮、甲醇等10多種有機溶劑。隨著 MOS（金屬-氧化物-半導體）電路的出現(xiàn)，特別是大規(guī)模及超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，對高純試劑的純度和凈度要求也越來越高，除在純度上要求金屬元素的雜質(zhì)控制在ppb級，非金屬元素達到0.1ppm的水平外，對塵埃粒度也有一定的要求，目前最高要求為: 100ml的液體中，2μm以上的顆粒不超過100個或300個。根據(jù)集成電路的集成度不同，有不同的質(zhì)量標準。
　　為了適應高純和超凈的質(zhì)量要求，生產(chǎn)這些試劑的某些工序，要在100級的超凈環(huán)境下進行。所用的高純水，產(chǎn)品容器的清洗、分裝、包裝以及產(chǎn)品的貯存等工序都有一套相應的超凈技術，以防止塵埃侵入產(chǎn)品。80年代這類試劑在中國的生產(chǎn)規(guī)模為數(shù)百噸，電子工業(yè)發(fā)達的國家已達萬噸規(guī)模。
　?、邸∫壕А∈请娮庸I(yè)中另一種新型材料。液晶的應用已有十多年的歷史，現(xiàn)在主要應用于電子工業(yè)。  
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