本標準規(guī)定了真空鍍膜顯現手印技術的原理、設備、鍍膜材料及實驗室環(huán)境要求、顯現準備、操作步驟及注意事項等。
本標準適用于顯現大多數非滲透性及部分半滲透、滲透性客體表面潛在手印，包括部分“502”膠熏顯后的客體等。 GA/T 1651-2019 法庭科學真空鍍膜顯現手印技術規(guī)范 Forensic sciences-Technical specifications for fingerprint development 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　by vacuum deposition system 2019-10-14發(fā) 布 2019-12-01實 施 中華人民共和國公安部發(fā)布 ＼刮涂層查冀偽 中華人民共和國公共安全 　 　 　 行 業(yè) 標 準 法 庭 科 學 真 空 鍍 膜 顯 現 手 印 技 術 規(guī) 范 　　　　　　　GA/T 1651-2019 　　　　中國標準出版社出版發(fā)行 　　北京市朝陽區(qū)和平里西街甲2號 （ 100029) 　　北京市西城區(qū)三里河北街16號 （ 100045) 　　　　　　網址www.spc.net.cn 總編室：(010)68533533發(fā)行中心：