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GB/T 14140-2009硅片直徑測量方法Test method for measuring diameter of semiconductor wafer GB/T 14140-2009硅片直徑測量方法Test method for measuring diameter of semiconductor wafer

GB/T 14140-2009硅片直徑測量方法Test method for measuring diameter of semiconductor wafer

  • 標準類別:[GB] 國家標準
  • 標準大小:
  • 標準編號:GB/T 14140-2009
  • 標準狀態(tài):現(xiàn)行
  • 更新時間:2022-12-16
  • 下載次數:
標準簡介

本標準代替GB/T14140.1《硅片直徑測量法 光學投影法》和GB/T14140.2《硅片直徑測量法 千分尺法》。本標準與GB/T14140.1和GB/T14140.2相比,主要有如下變化:---可測量最大直徑的范圍增加到300mm;---刪除了引用標準GB12962《硅單晶》;---增加了引用標準GB/T12964《硅單晶拋光片》;---增加了引用標準GB/T6093《幾何量技術規(guī)范(GPS)長度標準 量塊》;---增加了術語、意義用途、干擾因素;---修改了直徑模型的部分內容;---光學投影法參照ASTM F61393《半導體晶片直徑的標準測試方法》進行了修訂。本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會(SAC/TC203)提出。本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分技術委員會歸口。本標準起草單位:洛陽單晶硅有限責任公司。本標準主要起草人:劉玉芹、蔣建國、張靜雯、馮校亮。本標準所代替標準的歷次版本發(fā)布情況為:---GB/T14140.1-1993、GB/T14140.2-1993。

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