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GB/T 25185-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報(bào)告Surface chemical analysis—X-ray photoelectron spectroscopy—Reporting of methods used for charge control and charge correction GB/T 25185-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報(bào)告Surface chemical analysis—X-ray photoelectron spectroscopy—Reporting of methods used for charge control and charge correction

GB/T 25185-2010表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報(bào)告Surface chemical analysis—X-ray photoelectron spectroscopy—Reporting of methods used for charge control and charge correction

  • 標(biāo)準(zhǔn)類別:[GB] 國家標(biāo)準(zhǔn)
  • 標(biāo)準(zhǔn)大小:
  • 標(biāo)準(zhǔn)編號:GB/T 25185-2010
  • 標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):現(xiàn)行
  • 更新時(shí)間:2023-01-02
  • 下載次數(shù):
標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)按照GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ISO19318:2004《表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 荷電控制和荷電校正方法的報(bào)告》。本標(biāo)準(zhǔn)由全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出并歸口。本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位:北京師范大學(xué)分析測試中心。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:吳正龍。

標(biāo)準(zhǔn)截圖
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