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GB/T 28274-2012硅基MEMS制造技術(shù).版圖設(shè)計(jì)基本規(guī)則Silicon-based MEMS fabrication technology—The basic regulation of layout design GB/T 28274-2012硅基MEMS制造技術(shù).版圖設(shè)計(jì)基本規(guī)則Silicon-based MEMS fabrication technology—The basic regulation of layout design

GB/T 28274-2012硅基MEMS制造技術(shù).版圖設(shè)計(jì)基本規(guī)則Silicon-based MEMS fabrication technology—The basic regulation of layout design

  • 標(biāo)準(zhǔn)類別:[GB] 國家標(biāo)準(zhǔn)
  • 標(biāo)準(zhǔn)大?。?/li>
  • 標(biāo)準(zhǔn)編號:GB/T 28274-2012
  • 標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):現(xiàn)行
  • 更新時間:2022-09-22
  • 下載次數(shù):
標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)按照GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。本標(biāo)準(zhǔn)由全國微機(jī)電技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC336)提出并歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:北京大學(xué)、中機(jī)生產(chǎn)力促進(jìn)中心、中國電子科技集團(tuán)第十三研究所、中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所、西北工業(yè)大學(xué)。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:張大成、王瑋、劉偉、楊芳、姜森林、崔波、熊斌、喬大勇。

標(biāo)準(zhǔn)截圖
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