本標準技術(shù)內(nèi)容等同采用SMEIM630306《準則:采用高分辨率X 光衍射法測量砷化鎵襯底上AlGaAs中Al百分含量的測試方法》。本標準對SMEIM630306進行了編輯性修改。本標準的附錄A 為資料性附錄。本標準由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標準化技術(shù)委員會提出。本標準由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標準化技術(shù)委員會材料分技術(shù)委員會歸口。本標準起草單位:信息產(chǎn)業(yè)部專用材料質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心、中國電子科技集團公司第四十六研究所。本標準主要起草人:章安輝、黃慶濤、何秀坤。