論文簡介
介紹了一種細線條金屬連線光刻技術(shù).在濺射鋁后,生長一薄層氮化硅薄膜作為減反層,利用氮化硅薄膜的光刻條件,涂覆薄膠可以保證刻出細線條,腐蝕薄層氮化硅保證線寬,同時在腐蝕鋁過程中用氮化硅作掩蔽解決了薄膠問題.并在亞微米的抗輻射加固電路中成功應用.
論文截圖
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