等離子體氣動激勵(lì)的數(shù)值仿真
- 期刊名字:高電壓技術(shù)
- 文件大?。?/li>
- 論文作者:梁華,李應(yīng)紅,吳云,武衛(wèi),馬清源
- 作者單位:空軍工程大學(xué)工程學(xué)院一系
- 更新時(shí)間:2023-03-19
- 下載次數(shù):次
論文簡介
為了優(yōu)化等離子體氣動激勵(lì),揭示它與邊界層相互作用物理機(jī)制,建立了介質(zhì)阻擋表面放電的數(shù)學(xué)模型.將等離子體氣動激勵(lì)對流體的宏觀作用,等效成體積力,通過求解電勢方程和電荷密度方程得到體積力,然后將體積力與Navier-Stokes方程耦合求解,得到等離子體氣動激勵(lì)對流體邊界層的加速效應(yīng)并以此研究激勵(lì)電壓和頻率的變化對誘導(dǎo)速度的影響.仿真的結(jié)果與實(shí)驗(yàn)結(jié)果一致,表明模型具有較高的精度,有助于認(rèn)識等離子體氣動激勵(lì)用于流動控制的機(jī)理,為等離子體流動控制技術(shù)的應(yīng)用奠定基礎(chǔ).
論文截圖
下一條:等離子體射流特性分析
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