微波等離子體技術(shù)在ICF制靶中的應(yīng)用

期刊名字：強(qiáng)激光與粒子束
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論文作者：張繼成，吳衛(wèi)東，唐永建
作者單位：中國(guó)工程物理研究院
更新時(shí)間：2023-03-21
下載次數(shù)：次

論文簡(jiǎn)介

為了提高ICF精密制靶的質(zhì)量,提出用微波等離子體(MP)技術(shù),包括等離子體薄膜制備、等離子體反應(yīng)性離子束刻蝕、聚焦離子束刻蝕、摻雜納米金屬粉末制備和摻雜納米金屬粉末的表面包覆改性等技術(shù),去加以改進(jìn)和解決.此方法與其它成膜技術(shù)相結(jié)合,在ICF精密制靶中得到廣泛應(yīng)用.

論文截圖

上一條：基于顯微物鏡的表面等離子體共振

下一條：基于改進(jìn)Snake算法的坡口中光致等離子體圖像分割

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