低溫鍍鐵工藝的優(yōu)化及故障處理

期刊名字：電鍍與涂飾
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論文作者：楊森，劉憶，殷錦捷，韓輝
作者單位：遼寧工程技術(shù)大學(xué)材料系,徐州工程學(xué)院機電分院
更新時間：2023-04-01
下載次數(shù)：次

論文簡介

通過正交試驗,以沉積速率、顯微硬度、腐蝕速率為評價指標(biāo),得出低溫鍍鐵的最佳工藝參數(shù)為:ρ(FeCl2·4H2O)=400 g/L,θ=50.C,pH=1.0,J/k=14A/dm2.在最佳工藝條件下,鍍層的沉積速率為342.50 μm/h,顯微硬度為707 HV,中性鹽霧試驗中腐蝕速率為0.50 g/(m2.h),其結(jié)合力好,表面光亮,無針孔或結(jié)瘤.提出了低溫鍍鐵的故障處理方法.

論文截圖

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