等離子體浸沒(méi)式離子注入沉積是近年來(lái)迅速發(fā)展的一種材料表面改性新技術(shù),其基本原理是,作為靶的工件外表面全部浸沒(méi)在低氣壓、高密度的均勻等離子體中,工件上施加頻率為數(shù)百赫茲、數(shù)千至數(shù)萬(wàn)伏高壓負(fù)脈沖偏壓.它克服了傳統(tǒng)方法所具有的薄膜沉積或離子注入存在方向性的固有缺陷,因此在復(fù)雜形狀的三維工件表面改性工藝與技術(shù)上表現(xiàn)出無(wú)與倫比的優(yōu)越性.該技術(shù)可以有多種工作模式,在離子注入前、注入期間或注入后進(jìn)行原位清洗、刻蝕或薄膜沉積.作為應(yīng)用實(shí)例,本文給出在復(fù)雜形狀構(gòu)件上合成均勻類(lèi)金剛石或納米金剛石薄膜的實(shí)驗(yàn)結(jié)果,最后指出等離子體浸沒(méi)式離子注入沉積技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)和工業(yè)化應(yīng)用尚需解決的問(wèn)題.