采用有限差分法對(duì)Al/Ni多層膜的自持反應(yīng)歷程進(jìn)行了數(shù)值模擬,研究了多層膜反應(yīng)時(shí)的反應(yīng)溫度、速度以及反應(yīng)區(qū)形狀與寬度.結(jié)果表明:Al單層厚度為10nm的Al/Ni多層膜建立自持反應(yīng)的時(shí)間約為0.01ms,且此時(shí)間隨Al單層厚度增大而增加.穩(wěn)定傳播之前的反應(yīng)速度較快,反應(yīng)區(qū)寬度較之穩(wěn)定傳播后窄;穩(wěn)定傳播后,反應(yīng)區(qū)寬度不再變化;此外,反應(yīng)區(qū)由于預(yù)混層的存在呈現(xiàn)U形,與試驗(yàn)結(jié)果吻合.