為實(shí)現(xiàn)超光滑表面光學(xué)元件的高精度無(wú)損加工,將大氣射流等離子體炬技術(shù)引入到超光滑光學(xué)元件加工中.以石英玻璃為加工對(duì)象,對(duì)大氣射流等離子體炬的物理拋光去除效應(yīng)進(jìn)行了研究,分析了大氣射流等離子體炬放電功率、拋光時(shí)間、樣品處理位置等工藝參數(shù)的變化,對(duì)石英玻璃刻蝕速率和表面粗糙度的影響.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,以空氣為工作氣體時(shí),對(duì)石英玻璃的刻蝕速率最高可達(dá)4.6 nm/min.經(jīng)拋光處理后的石英表面粗糙度受到工藝條件的影響,在等離子炬功率為420～460W,作用距離16～22mm范圍內(nèi),石英玻璃的表面粗糙度有明顯下降,隨著拋光時(shí)間的增加,呈現(xiàn)出收斂性.