光化學煙霧數(shù)值模擬
- 期刊名字:四川環(huán)境
- 文件大?。?/li>
- 論文作者:鐘彩霞,賈皓亮
- 作者單位:江西現(xiàn)代職業(yè)技術學院
- 更新時間:2023-01-29
- 下載次數(shù):次
論文簡介
根據(jù)形成光化學煙霧的反應機制建立光化學反應動力學方程組并對其進行數(shù)值模擬,模擬結果表明:光化學煙霧重要指示劑(O3和PAN)的濃度是由NOx和HC的濃度共同決定.在一個封閉無源系統(tǒng)內發(fā)生光化學反應時,RH濃度會有輕微減少,NO→NO2的轉化十分明顯、NO濃度大幅度降低,O3和PAN的濃度呈增加趨勢.
論文截圖
上一條:基坑降水數(shù)值模擬研究
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