等離子體隱身技術(shù)是一種新型的隱身技術(shù),是雷達(dá)隱身技術(shù)的最新發(fā)展.介紹了等離子體的產(chǎn)生方法,討論了等離子體的隱身機(jī)理,闡述了國(guó)內(nèi)外等離子體隱身技術(shù)的研究進(jìn)展.針對(duì)目前難以產(chǎn)生性能穩(wěn)定的等離子體以及在目標(biāo)表面難以形成持續(xù)均勻的等離子體層等技術(shù)難點(diǎn),介紹了兩種最新的改進(jìn)措施,最后對(duì)等離子體隱身技術(shù)的發(fā)展前景進(jìn)行了展望.