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等離子體射流及其醫(yī)學(xué)應(yīng)用 等離子體射流及其醫(yī)學(xué)應(yīng)用

等離子體射流及其醫(yī)學(xué)應(yīng)用

  • 期刊名字:高電壓技術(shù)
  • 文件大?。?/li>
  • 論文作者:盧新培
  • 作者單位:華中科技大學(xué)強(qiáng)電磁工程與新技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室
  • 更新時(shí)間:2023-03-20
  • 下載次數(shù):
論文簡(jiǎn)介

由于大氣壓非平衡等離子體射流裝置能夠在開放空間、而不是如傳統(tǒng)放電僅在放電間隙內(nèi)產(chǎn)生等離子體,這個(gè)顯著優(yōu)點(diǎn)對(duì)于許多應(yīng)用,特別是近幾年來(lái)興起的等離子體醫(yī)學(xué)方面的應(yīng)用是至關(guān)重要的。為此,首先對(duì)大氣壓非平衡等離子體射流(N-APPJ)的研究現(xiàn)狀進(jìn)行闡述,結(jié)合作者課題組所作的研究,以及國(guó)內(nèi)外其他研究者的成果,分別介紹幾種以惰性氣體、氮?dú)夂涂諝庾鳛楣ぷ鳉怏w的典型的N-APPJ。此外,由于等離子體醫(yī)學(xué)的發(fā)展與N-APPJ的發(fā)展是緊密聯(lián)系的,還簡(jiǎn)要介紹了等離子體醫(yī)學(xué)的發(fā)展歷史,并對(duì)等離子體醫(yī)學(xué)的兩個(gè)代表性的研究方向,即N-APPJ在口腔醫(yī)學(xué)和誘導(dǎo)癌細(xì)胞凋亡這兩個(gè)研究方向的最新研究成果作了概述。最后對(duì)等離子體射流和等離子體醫(yī)學(xué)所面臨的一些問(wèn)題,及未來(lái)的研究方向進(jìn)行了展望。

論文截圖
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