紡織品常壓輝光放電等離子體處理技術(shù)

期刊名字：印染
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論文作者：黃廣友，周翔，沈安京
作者單位：東華大學(xué)化學(xué)與化工學(xué)院,上海市紡織科學(xué)研究院
更新時間：2023-03-21
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論文簡介

介紹電暈放電、介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生等離子體的理論和應(yīng)用;重點闡述大氣壓下輝光放電(APGD)技術(shù)的現(xiàn)狀,解釋了電子雪崩模型和流注放電理論,并以電壓-電流波形圖和電壓-電荷李薩育圖鑒別介質(zhì)阻擋放電與大氣壓下輝光放電.通過對這三種放電形式的應(yīng)用分析,確定了大氣壓下輝光放電等離子體最適合處理紡織材料,并對其面臨的問題及前景作了分析.

論文截圖

上一條：脈沖氙燈放電時等離子體電阻的研究

下一條：等離子體隱身的極化損耗機理

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