高純度的三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體,是半導(dǎo)體與LCD產(chǎn)業(yè)制造過程中必備的材料.針對NF3氣體中CF4雜質(zhì)采用常規(guī)方法難以分離的特點,提出一種新的純化工藝--低溫萃取精餾純化法,對低溫萃取精餾生產(chǎn)高純NF3過程的工藝流程進(jìn)行了研究,并采用AspenPlus在廣泛操作條件下對精餾過程進(jìn)行了精餾模擬計算.通過工藝試驗,找到適合于本物系的精餾運(yùn)行參數(shù),優(yōu)化了生產(chǎn)流程,穩(wěn)定了工藝系統(tǒng)運(yùn)行,三氟化氮純度達(dá)到了99.999%以上,產(chǎn)品中的CF4雜質(zhì)含量低于1×10-6(V/V).