研制成功了一臺(tái)微波電子回旋共振等離子體刻蝕系統(tǒng).該系統(tǒng)采用微波通過(guò)同軸開(kāi)口電介質(zhì)空腔產(chǎn)生表面波,由Nd-Fe-B永磁磁鋼形成高強(qiáng)磁場(chǎng),通過(guò)共振磁場(chǎng)區(qū)域內(nèi)的電子回旋共振效應(yīng)產(chǎn)生大面積、均勻、高密度等離子體.利用該系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了SiO2、SiN、SiC、Si等材料的微細(xì)圖形刻蝕,刻蝕速度分別為200 nm/min,500 nm/min,400 nm/min,700 nm/min,加工硅圓片Φ200 mm,線條寬度＜0.3 μm,選擇性(SiO2、Si)＞20,剖面控制＞83°,均勻性95%,等離子體密度2.0×1011 cm-3.電離度大(＞10%),工作氣壓低(1 Pa～10-3 Pa),均勻性好,工藝設(shè)備簡(jiǎn)單,參數(shù)易于控制等優(yōu)點(diǎn).