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半導體橋電容放電特性研究 半導體橋電容放電特性研究

半導體橋電容放電特性研究

  • 期刊名字:火工品
  • 文件大?。?/li>
  • 論文作者:馬鵬,朱順官,徐大偉,張琳,張壘
  • 作者單位:南京理工大學化工學院,海軍駐錦州軍事代表室
  • 更新時間:2023-03-24
  • 下載次數(shù):
論文簡介

通過分析半導體橋(Semiconductor Bridge,SCB)在相同電容不同電壓下的電壓電流曲線和橋面的燒蝕情況,研究了SCB的放電特性.實驗發(fā)現(xiàn):在相同電容下,隨著充電電壓的升高,SCB從無等離子體到有等離子體產(chǎn)生,且橋面的燒蝕程度增大.在低電壓無等離子體時,電壓和電流幾乎同時斷開;高電壓產(chǎn)生等離子體時,由于等離子體是導體,在電壓斷開后電流持續(xù)一段時間斷開.小電容放電時,其時間常數(shù)較小,較小的能量就可以將藥劑點燃.

論文截圖
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