等離子體穩(wěn)定性對(duì)曲面金剛石膜生長(zhǎng)的影響

期刊名字：功能材料
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論文作者：李多生，周賢良，左敦穩(wěn)，鄒愛華
作者單位：南昌航空大學(xué),南京航空航天大學(xué)
更新時(shí)間：2023-03-21
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論文簡(jiǎn)介

采用直流等離子體噴射化學(xué)氣相沉積(DCPJCVD)制備曲面金剛石膜,等離子體穩(wěn)定性對(duì)金剛石膜生長(zhǎng)十分重要.研究表明,曲面金剛石膜長(zhǎng)時(shí)間生長(zhǎng),陽極積聚石墨碳點(diǎn),等離子體流動(dòng)受阻失穩(wěn),金剛石膜含較多雜質(zhì).通過對(duì)陽極除碳處理,可維持穩(wěn)定的等離子體、穩(wěn)定的電子溫度Te、均勻的活性原子及原子基團(tuán)密度.制備的金剛石膜經(jīng)SEM、Raman等表征,發(fā)現(xiàn)曲面金剛石膜致密、晶粒均勻,僅發(fā)現(xiàn)金剛石特征峰,制備的曲面金剛石膜質(zhì)量較高.

論文截圖

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