新型低溫等離子體技術(shù)及應(yīng)用

期刊名字：廣東技術(shù)師范學(xué)院學(xué)報(bào)
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論文作者：王春安，閆俊虎
作者單位：廣東技術(shù)師范學(xué)院
更新時(shí)間：2023-03-20
下載次數(shù)：次

論文簡介

等離子體尤其是低溫等離子體由于其一系列特殊的性質(zhì),廣泛應(yīng)用于薄膜沉積、微電路干法刻蝕、材料表面改性等方面.本文介紹了目前經(jīng)常采用的幾種新型低溫等離子體技術(shù),電子回旋共振(ECR)等離子體、射頻感應(yīng)耦合(ICP)等離子體、以及螺旋波(HWP)等離子體.這幾種等離子體由于無內(nèi)電極放電無污染、等離子體密度高、能量轉(zhuǎn)換率高、電離度高等優(yōu)點(diǎn)必將在傳統(tǒng)工藝的基礎(chǔ)上得到更廣泛的應(yīng)用.

論文截圖

上一條：等離子體概念、分類及基本特性

下一條：等離子體隱身機(jī)理研究

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