半導(dǎo)體ZnO晶體生長(zhǎng)及其性能研究進(jìn)展
- 期刊名字:材料導(dǎo)報(bào)
- 文件大小:
- 論文作者:鞏鋒,臧競(jìng)存,楊敏飛
- 作者單位:北京工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院
- 更新時(shí)間:2023-03-24
- 下載次數(shù):次
論文簡(jiǎn)介
ZnO晶體是直接寬帶隙半導(dǎo)體材料,室溫下禁帶寬度為3.37eV,激子束縛能為60meV.其禁帶寬度對(duì)應(yīng)紫外光的波長(zhǎng),有望開發(fā)藍(lán)綠光、藍(lán)光、紫外光等多種發(fā)光器件.對(duì)ZnO晶體的生長(zhǎng)方法及研究進(jìn)展做了簡(jiǎn)要的敘述.
論文截圖
版權(quán):如無特殊注明,文章轉(zhuǎn)載自網(wǎng)絡(luò),侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)系cnmhg168#163.com刪除!文件均為網(wǎng)友上傳,僅供研究和學(xué)習(xí)使用,務(wù)必24小時(shí)內(nèi)刪除。
熱門推薦
-
C4烯烴制丙烯催化劑 2023-03-24
-
煤基聚乙醇酸技術(shù)進(jìn)展 2023-03-24
-
生物質(zhì)能的應(yīng)用工程 2023-03-24
-
我國(guó)甲醇工業(yè)現(xiàn)狀 2023-03-24
-
石油化工設(shè)備腐蝕與防護(hù)參考書十本免費(fèi)下載,絕版珍藏 2023-03-24
-
四噴嘴水煤漿氣化爐工業(yè)應(yīng)用情況簡(jiǎn)介 2023-03-24
-
Lurgi和ICI低壓甲醇合成工藝比較 2023-03-24
-
甲醇制芳烴研究進(jìn)展 2023-03-24
-
精甲醇及MTO級(jí)甲醇精餾工藝技術(shù)進(jìn)展 2023-03-24
