Xe液體微滴靶激光等離子體光源實(shí)驗(yàn)

期刊名字：光學(xué)精密工程
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論文作者：尼啟良
作者單位：中國(guó)科學(xué)院
更新時(shí)間：2023-03-20
下載次數(shù)：次

論文簡(jiǎn)介

基于Xe的惰性和在13～14 nm波段高的輻射強(qiáng)度,Xe被認(rèn)為是極紫外投影光刻(EUVL)潛在的靶材,為此設(shè)計(jì)和研制了一臺(tái)液體微滴噴射靶激光等離子體(LPP)極紫外光源.詳細(xì)地研究了Xe液體微滴噴射靶的光譜輻射特性、在13.4 nm的激光-EUV轉(zhuǎn)換效率、輻射穩(wěn)定性及碎屑產(chǎn)生狀況.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,Xe在13.4 nm的最高轉(zhuǎn)換效率可以達(dá)到0.75%/2πsr/2%bw,輻射穩(wěn)定性±4%(1σ),在激光打靶105次后無(wú)碎屑產(chǎn)生.

論文截圖

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