透明導(dǎo)電半導(dǎo)體ZnO膜的研究

期刊名字：應(yīng)用光學(xué)
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論文作者：蔣向東，張懷武，黃祥成
作者單位：電子科技大學(xué)信息材料工程學(xué)院,西安應(yīng)用光學(xué)研究所
更新時(shí)間：2023-03-24
下載次數(shù)：次

論文簡(jiǎn)介

本文采用獨(dú)特的電子束蒸鍍方法,在光學(xué)鍍膜機(jī)上,以ZnO+3%Al2O3和ZnO為膜料,k9光學(xué)玻璃為襯底,制備出ZnO膜.膜層為多晶膜,可見(jiàn)光透過(guò)率為T=70-90%,電阻率ρ=1×10-5Ω@m,方電阻為R口=150±50Ω/口,膜機(jī)械強(qiáng)度超過(guò)國(guó)標(biāo)單層標(biāo)準(zhǔn),找到實(shí)用最佳工藝條件.

論文截圖

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